UV減粘膜又名UV失膠膠帶、UV減粘膠帶，UV膜是一種在特殊PO基材薄膜上涂UV高粘度膠水。其顯示高勁粘接力（1200g~2000g）不等，但是經過紫外線照射后粘接力急劇下降型（5g~10g）甚至更低或無粘附力的特殊膠水做成的單面膠帶。


PO基材薄膜是由日本采用流延方法制得的未拉伸聚烯烴共聚物薄膜，經多重工藝而產出的一種新型基膜。該基膜材質柔軟，與市場上傳統(tǒng)PE膜及EVA膜比較優(yōu)勢突出，有超強的拉伸強度及抗撕裂強度 采用納米技術，多工藝多結構。其表面具備防水性，另一表面防靜電暈處理。無析出物，不易吸附灰塵，達到長久保持高透光的效果?？估煨詮?，切割時不起塵，耐磨性能優(yōu)異等特點，重要的是還有紫外線防護效果。是作為UV減粘膜（失粘膜）與OGS抗酸膜的主要基膜材料。


目前國內已有部分廠家開始研制但其效果還不太令市場滿意。所以大多減粘膜也還是停留在PET基材上！PO基材是為晶片研磨、切割、精細電子零件之承載加工和各種材質的微小零件加工切割之用而設計的一款功能性基膜。是目前各大中小型涂布廠作為UV減粘膜與抗酸膜等的理想選材。


UV減粘膜與抗酸膜用于以下行業(yè)：

1、適用于硅晶片、鋼化玻璃、電子元器件、SMT元器件、MLCC片式電容，片式電感制程中的定位切割、PLC芯片、晶圓等半導體的切割和制成工序保護，EMC或陶瓷基板的LED燈珠，QFN，PCB，封裝好的半導體芯片Package，PLC元器件，光纖頭元器件，晶圓 LDE芯片切割，石英玻璃、 手機攝像頭玻璃、 濾光片切割、 QFN和DFN切割等；



2、半導體晶片表面加工；電子及光電產業(yè)部件制作加工工程；LCD和TP觸控面板玻璃減薄，研磨拋光；LED切割研磨拋光；藍寶石基板的薄化研磨制程；晶片研磨、切割、各種硅片、封裝基板、陶瓷、玻璃、水晶精細電子零件等；

3、PO抗酸膜適用于ITO玻璃、COVER LENS玻璃蓋板化學強化酸液蝕刻工藝保護；

4、其他需要高粘緊密貼合保護，后期需要易撕離的制程保護。


UV保護膜的特點：

1：切割時高粘著力，照射UV后粘度很低撿拾時晶片不飛散，不殘膠。因為有很強的黏著力來固定晶圓, 即使是小芯片也不會發(fā)生位移或剝除而能確實的切割。

2：照射UV反應時間快速，有效提升工作效率，由紫外線照射能夠控制瞬間的黏著力, 即使是大芯片也可以用較輕的力能將產品拾起。

3、保持晶粒在切割中的完整，（無任何晶粒流失）減少切割中所產生的崩碎。

4、確保晶粒在正常傳送過程中,不會有位移、掉落的情形，水不會滲入晶粒與膠帶之間。

5、Uv固化晶圓切割保護膜（的特點就是在uv固化前有普通保護膜所不能比的超高粘度（可以達到驚人的1500g-2000g gf/25mm） 在經過uv紫外線照射之后粘度又可以變成超低粘的15g-20g。甚至更低粘力克數。

6、另外還有一個特點就是PO基材具有極強的（橫縱向）延展性（elongation%）可以達到300 、600。

來源：東莞市煜龍光電有限公司


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