杜邦在韓國投資2800萬美元（1.94億人民幣）建設EUV光刻膠廠，并預計在2021年前實現(xiàn)投產(chǎn)。
據(jù)《路透社》報導，1月9日，美國杜邦（DuPont）宣布在韓國投資2800萬美元（1.94億人民幣）建設EUV光刻膠廠，并預計在2021年前實現(xiàn)投產(chǎn)，進行光刻膠以及相關材料的生產(chǎn)。
對于這樣的消息，韓國媒體報導指出，三星等韓國大型科技廠商將不用再過度依賴日本供應相關產(chǎn)品，達到產(chǎn)品來源多元化的目的。
目前杜邦在韓國已有2座工廠。而據(jù)韓國貿(mào)易部官員表示，杜邦公司除了將繼續(xù)投資韓國的兩座現(xiàn)有工廠，還將新設一座新工廠，地點將是距離首爾南方92公里已有杜邦廠房的忠清南道天安市，建設時間預計為2020~2021年。韓國政府和地方政府還將承擔土地的費用，還給予免除稅金等優(yōu)惠。
此前，由于日韓間勞工賠償?shù)葰v史遺留問題，2019年7月1日，日本拉開了與韓國貿(mào)易戰(zhàn)的序幕。
2019年7月4日，日本宣布將對韓國出口的氟聚酰亞胺（Fluorine Polyimide）、光刻膠（Resist）和高純度氟化氫（Eatching Gas）三種產(chǎn)品進行出口限制。這三種產(chǎn)品是電子行業(yè)追重要的原材料。
其中光刻膠是各大芯片、集成電路生產(chǎn)的關鍵材料，日企在全球市場占比為80%。
這一舉動，直接限制了三星未來在7nm以下邏輯器件CPU的生產(chǎn)。
對于日本的舉動，三星迅速做出反應，增加了比利時產(chǎn)材料的進口。從比利時進口的光刻膠在今年第三季度達到了459萬美元，是上一季度(約25萬美元)的20倍。其中大多數(shù)是EUV的光刻膠。
因此，就目前來看，三星受到的影響并不是很大，其已經(jīng)開始大規(guī)模生產(chǎn)基于7納米EUV工藝的移動應用處理器Exynos 9825，但產(chǎn)量只占其總產(chǎn)量的一小部分。
但是真正的問題將在幾年后出現(xiàn)，那時EUV制程工藝將成為主流。
根據(jù)IC Insights的報告，到2023年，10nm以下的半導體產(chǎn)量將從今年的105萬張/月增加到627萬張/月。同期，10納米以下半導體工藝的比例將從5%增長到25%。
業(yè)內(nèi)人士預測，在未來幾年內(nèi)，EUV技術將占到大部分7納米以下的工藝。
EUV技術的不斷推進將導致EUV中光刻膠使用的增加。據(jù)韓國芯片制造商預測，EUV光刻膠的本土化無法在幾年內(nèi)實現(xiàn)，因此他們計劃脫離日本，尋求多樣化供應商。然而，由于他們與日本供應商對EUV光刻膠進行了優(yōu)化，如果脫離日本，收益率或直接下降。
不過，除了三星等韓國公司，日本的光刻膠企業(yè)也受到了影響，因而，去年12月，傳出了日本JSR欲在韓國建光刻膠廠來規(guī)避貿(mào)易政策的的消息，且JSR已與三星進行計劃分享，但是最終是否建廠還要等官方確認。
因此，杜邦此次的投資，對于韓國來說，可以說是解決了燃眉之急。
只不過遺憾的是，目前杜邦的EUV光刻膠技術尚未達到可以將其完整應用到相關制程上的地步，但是在韓國這樣成熟的科技制造業(yè)環(huán)境中，杜邦的光刻膠生產(chǎn)技術想必能夠快速地發(fā)展。
另外，由于杜邦在韓國的新投資，韓國國內(nèi)的高科技材料供應也有望產(chǎn)生更大的變化，因為隨著杜邦成為日本產(chǎn)品的替代者，韓國現(xiàn)有的企業(yè)似乎正在考慮以杜邦的替代方案來持續(xù)韓國的市場需求，這可能將成為韓國政府未來繼續(xù)與日本談判的籌碼。
來源： 膜鏈
